有很多種設備可以處理一些工廠排放出來的廢氣，光氧化設備就是其中一種專門處理各種廢氣的一種設備，可以使用到很多方法來完成設備，下面就是其分解過程的一些詳細介紹。
　　1、光降解通常是指有機物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物*終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后進一步發(fā)生的化學反應。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導一系列有機污染的反應。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的有機污染物更為重要。
　　2、光氧化設備可以利用光化學反應降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過一定的反應產(chǎn)生·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，同時光氧化設備結合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子空穴作用，產(chǎn)生HO等氧化性的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式污染物全部或接近全部礦化。
　　通過對以上講述的光氧化設備的分解過程，知道了它是如何分解廢氣的，對于以后處理廢氣方面是能夠帶來更好的作用的。